〔記者林慶川／台北報導〕全球晶圓代工龍頭台積電（2330）爆發2奈米製程關鍵技術外
流的重大洩密事件，高等檢察署智慧財產分署上月底已依涉犯國家安全法罪嫌，向法院聲
請羈押涉案的三名已離職及現任工程師獲准，據了解，此次共有上千張製程技術照片外洩
，災情相當慘重。

據了解，台積電日前發現製程技術疑遭外流後，立即向高檢署提告，檢方經追查後，指揮
調查局上月25日及28日發動多波搜索及約談行動，目前已知有一名陳姓離職工程師，及近
10名台積電先進製程試產及研發工程師涉案，此名陳姓工程師曾在台積電系統整合部門任
職，離職後轉往台積電長期合作的日商東京威力科創擔任設備工程師，因陳與台積電目前
先進製程相關研發人員熟識，因此負責與台積電研發部門對接。

據悉，陳與台積電研發部門有密切往來，加上熟識研發人員，目前已查出陳竊密的方式，
是由台積電工程師打開電腦螢幕出示製程技術圖樣，陳再以手機直接拍照，據了解，陳直
接從吳姓等兩名工程師電腦螢幕上，分別拍攝了700多張、近300張製程技術照片，另外，
有幾位台積電工程師，也提供拍攝較不具機密性的個位數的製程圖，情節較輕，因此未被
聲押。

2奈米技術是目前半導體產業中最高階的製程技術，包括三星、英特爾和日本Rapidus均積
極研發中，據悉，陳姓設備工程師是在日商東京威力科創任職，而由於此案涉及的台積電
還未量產的2奈米最先進製程，已被我國列為「國家核心關鍵技術」，涉犯洩漏或未經授
權使用，依違反國家安全法論處。